Gli ricercatori hanno sviluppato una tecnica innovativa per la nanofabbricazione all’interno del silicio, permettendo la creazione di nanostrutture sepolte con dimensioni fino a 100 nm. Utilizzando impulsi laser modulati spazialmente, hanno raggiunto un controllo e una precisione senza precedenti nella creazione di elementi nanofotonici, offrendo un potenziale significativo per i progressi in elettronica e fotonica. […]